水処理教室

栗田工業/KCRセンターの小川です。№9の水処理教室では、「連続式電気脱イオン装置」についてお話いたします。従来のイオン交換装置は、一定量の純水を採水した後、イオン交換樹脂に吸着しているイオンを薬品で除去しなければなりません。その除去作業やコストを低減するために開発された連続式電気脱イオン装置について解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの坂倉です。№10の水処理教室では、「水道水をつくるための水処理」についてお話いたします。水道水の取水源は川の表流水、伏流水、地下水です。こうした取水源の水質は年々悪化しており、浄水場では高度な水処理技術が必要になっています。今回は、安心安全な水道水をつくるための水処理技術について解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの池上です。№12の水処理教室では、「凝集処理」についてお話いたします。自然界に存在する微細粒子は、一般的にマイナスに帯電しているため、互いに反発して凝集しません。そこで、プラス荷電をもつ凝集剤を添加すると中和され凝集が起こります。その凝集の方法などについて分かりやすく解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの小川です。№13の水処理教室では、「加圧浮上装置」についてお話いたします。水より比重が軽い物質というと油が代表的です。このような比重の小さい物質を水面に浮かせて分離する方法を浮上処理と言います。しかし、水と比重の差が非常に小さい物質では空気を加圧して浮上させる方法を使います。その時に用いる加圧浮上装置について解説します。

栗田工業/KCRセンターの坂倉です。№14の水処理教室では、「純水よりはるかに純度が高い超純水」についてお話いたします。純水は溶液中の電解質を対象に計測しますが、超純水は電解質はもちろん水中に溶解している有機物、生菌、微粒子などが一定基準以下であることが求められます。ここでは特に半導体で必要な超純水について解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの佐藤です。№15の水処理教室では、「超純水製造装置のしくみ」についてお話いたします。半導体製品の洗浄や、半導体製造に使用する薬品の希釈用などには、他と比較的できないほどの高純度の超純水が必要です。今回は、水処理のすべての技術を投入して開発された超純水製造装置のしくみについて解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの池上です。№16の水処理教室では、「好気性微生物の働きを利用した活性汚泥法」についてお話いたします。好気性微生物に水中の有機物を処理させることを活性汚泥法といいます。この時、微生物には酸素が必要なため、装置には空気(酸素)を供給する必要があります。そのしくみについて分かりやすく解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの佐藤です。№19の水処理教室では、「汚泥を高密度にして体積を減らすHDS法」についてお話いたします。汚泥は埋め立てなど投棄処理しなければなりませんが、多量の水分を含んでいると体積も重量も大きく、搬送・投棄に大きな負担がかかります。その対策として開発されたHDS法について解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの池上です。№20の水処理教室では、「フッ素を含んだ排水の処理方法」についてお話いたします。フッ素を含む飲料水を長期間摂取すると歯に褐色のシミや白い斑点ができたり、慢性中毒症が起こる場合があります。そのためフッ素を一定の基準以下に処理しなければなりません。その処理方法であるフッ化カルシウム法などについて解説します。

栗田工業/KCRセンターの小川です。№21の水処理教室では、「半導体工場などでCaF₂を効率的に回収する装置」についてお話いたします。半導体工場では、製造工程でフッ素化合物を含む溶液が多く使用されています。この排水を処理する時に大量の汚泥が排出されています。その汚泥を削減すると同時に、フッ素を再利用する装置について解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの坂倉です。№22の水処理教室では、「純水製造装置のしくみ」についてお話いたします。純水の製造には、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂をそれぞれ独立した塔に充填する多床塔方式と、両方の樹脂を均一に混合して一つの塔に充填する混床塔方式があります。このうち2床3塔で構成される多床塔方式について解説いたします。

栗田工業/KCRセンターの池上です。№24の水処理教室では、「ユースポイントへの配管の工夫」についてお話いたします。超純水供給配管は、超純水をサブシステムからユースポイントまで送水するために重要な役割を持っています。特に超純水の水質を保つために様々な対策が施されています。その配管の工夫について詳しく解説いたします。